用一台机器抛光和精加工尺寸达1.2米的自由曲面光学器件，达到高精度！
最新的MRF技术
扩展的尺寸能力
抛光孔径尺寸达1200 mm
QED.NET软件
EFMS（电子流体监测系统）流体控制系统。
技术能力
抛光高达1200 mm x 1200 mm的平面球、非球面、柱面和自由曲面光学器件
多部件批量抛光软件
4种不同的轴配置可用
可互换抛光头
50 mm MRF砂轮可抛光小表面特征并减少边缘效应。
370 mm MRF车轮具有高材料去除率，可快速覆盖大表面。
抛光垫可用于预抛光或抛光：
可变轨道和旋转RPM
可变压力
50mm和100mm抛光垫
Q22-1200
大规格
抛光孔径尺寸达1200 mm
技术规范
工件
最大工件尺寸* 1200毫米
最大工件重量* 400 kg（包括透镜架）
最大半角 30度
工件连接装置** 机械（真空可选）
各轴*** X、Y、Z、A、B、C、Q、Zp
移动范围***
（X） 1606毫米
（Y） 1016毫米
（Z，Z素） 740毫米
（B） B+/-32度
（C） C+/-35度
（Q，A） 连续或360度
定位精度***
（X，Y，Z） +/-0.0076毫米
（B，Q） +/-20弧秒
（D） +/-10弧秒
Q22-1200配置 3轴 4轴 5轴 6轴
坐标轴 X,Y,Z X,Y,Z,C X,Y,Z,B,C X,Y,Z,B,C,Q
平面光学的MRF抛光950 x 1200 950 x 1200 12000 x 1200 1200 x 1200
平板光学垫抛光 950 x 1200 950 x 1200 950 x 1200 950 x 1200
“温和”球体、非球面和自由光学的MRF抛光 950 x 1200
柱面、球面、非球面和自由曲面光学的MRF抛光 1200x1200, 1200x1200 1200x1200
平面、球面和非球面光学的衬垫抛光 1200 x 1200
咨询电话：135 2207 9385
机器规格
机器占地面积 4.08 m宽x 3.72 m深
所需最小占地面积 5.56 m宽x 5.76 m深
机器安装高度 3.67 m高
机器总重量 13636千克
最小门开度（宽x高） 3.69米x 2.97米
与电有关的 210 VAC，50/60 Hz，63A，3ph+N+PE（5线）
水**** 包括独立冷却器
压缩空气 87磅/平方英寸（6巴），3cfm（85ℓ/min），干燥并过滤至10μm
电气的部分：
与电有关的 210 VAC，50/60 Hz，63A，3ph+N+PE（5线）
水**** 包括独立冷却器
压缩空气 87磅/平方英寸（6巴），3cfm（85ℓ/min），干燥并过滤至10μm